Epitaxial silicon chemical vapor deposition below atmospheric pressure
Epitaxial silicon chemical vapor deposition below atmospheric pressure
复制标题
大气压下外延硅化学气相沉积
DOI：
10.1016/0921-5107(89)90279-1
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发表时间：
1989
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Mercier
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Regolini;D. Bensahel;J. Mercier
