A new validation method for modeling nanogap fabrication by electromigration, based on the Resistance–Voltage (R–V) curve analysis
A new validation method for modeling nanogap fabrication by electromigration, based on the Resistance–Voltage (R–V) curve analysis
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基于电阻电压 (R-V) 曲线分析的电迁移纳米间隙制造建模新验证方法
DOI：
10.1016/j.physleta.2012.05.020
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发表时间：
2012
影响因子：
2.6
通讯作者：
D. Demarchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ismael Rattalino;P. Motto;G. Piccinini;D. Demarchi
