Hole Gas Density Enhancement in Al-Catalyzed SiNW/i-Ge Core-Shell Structure by Thin B-doped Layer Interposition.
Hole Gas Density Enhancement in Al-Catalyzed SiNW/i-Ge Core-Shell Structure by Thin B-doped Layer Interposition.
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通过薄 B 掺杂层插入来增强 Al 催化 SiNW/i-Ge 核壳结构中的空穴气体密度。
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
FUKATA Naoki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
JEVASUWAN Wipakorn;ZHANG Xiaolong;MATSUMURA Ryo;FUKATA Naoki
