Low-temperature crystallization of amorphous silicon by atmospheric pressure plasma treatment in H_2/He or H_2/Ar mixtures
Low-temperature crystallization of amorphous silicon by atmospheric pressure plasma treatment in H_2/He or H_2/Ar mixtures
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H_2/He或H_2/Ar混合物中常压等离子体处理非晶硅低温晶化
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kiyoshi Yasutake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiromasa Ohmi;Hiroaki Kakuuchi;Kenichi Nishijima;Heiji Watanabe;Kiyoshi Yasutake
