Si nanocrystals formation in SiO2 by ion implantation : The effects of RTA and UV irradiation on photoluminescence.
Si nanocrystals formation in SiO2 by ion implantation : The effects of RTA and UV irradiation on photoluminescence.
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通过离子注入在 SiO2 中形成硅纳米晶体：RTA 和 UV 照射对光致发光的影响。
DOI：
10.1016/j.vacuum.2011.12.013
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
T.S.Iwayama
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Oba;M.Ohnuma;S.Ohnuma;M.Furusaka;Lim Young-Mi;T.S.Iwayama
