半導体スピン素子のための高濃度p型Si層の作製
半導体スピン素子のための高濃度p型Si層の作製
复制标题
用于半导体自旋器件的高浓度p型硅层的制备
DOI：
--
复制
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
石川 瑞恵
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
渡部陸矢;竹田直樹;春谷慶太朗;高橋宏輔;上谷幸治郎;常安翔太;佐藤利文;石川 瑞恵
