Oxygen solubility and diffusibility of SiOxNy films deposited by DC magnetron sputtering
Oxygen solubility and diffusibility of SiOxNy films deposited by DC magnetron sputtering
复制标题
直流磁控溅射沉积SiOxNy薄膜的氧溶解度和扩散率
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R. Murakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高奈秀匡;他;水谷公一;水谷公一;水谷 公一;R. Murakami;R. Murakami
