大気圧プラズマCVD法によるハイブリッドシリカ膜の常温常圧製膜
大気圧プラズマCVD法によるハイブリッドシリカ膜の常温常圧製膜
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采用常压等离子体CVD法常温常压制备杂化二氧化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
長澤 寛規
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nagasawa Hiroki;Kagawa Takahiko;Noborio Takuji;Kanezashi Masakoto;Ogata Atsushi;Tsuru Toshinori;長澤 寛規
