K.Furukawa et al: "Verification of Preoxidation effect on Deposition of Thin Gate-Quality Silicon Oxide Films at Low Temperature by a Sputtering-Type ECR Microwave Plasma"Materials Science & Engineering. B72. 128-131 (2000)
K.Furukawa et al: "Verification of Preoxidation effect on Deposition of Thin Gate-Quality Silicon Oxide Films at Low Temperature by a Sputtering-Type ECR Microwave Plasma"Materials Science & Engineering. B72. 128-131 (2000)
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K.Furukawa 等人：“验证溅射型 ECR 微波等离子体在低温下沉积薄栅极质量氧化硅薄膜的预氧化效果”材料科学
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