Local deposition using an electrostatic inkjet technique with a nanopipette for photomask repair
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使用静电喷墨技术和纳米移液器进行局部沉积，用于光掩模修复
DOI：
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发表时间：
2015
影响因子：
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通讯作者：
Hiroyuki Ui
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Futoshi Iwata;Hiroyuki Ui
