グラフェンを用いた絶縁膜上におけるGe選択形成技術
グラフェンを用いた絶縁膜上におけるGe選択形成技術
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使用石墨烯的绝缘膜Ge选择性形成技术
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
塚本 貴広，広瀬 信光，笠松 章史，松井 敏明，須田 良幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takahiro Tsukamoto;Nobumitsu Hirose;Akifumi Kasamatsu;Toshiaki Matsui;Yoshiyuki Suda;塚本 貴広，広瀬 信光，笠松 章史，松井 敏明，須田 良幸
