一個流し成膜に向けた同軸型マグネトロンスパッタリング装置の作動特性解明
一個流し成膜に向けた同軸型マグネトロンスパッタリング装置の作動特性解明
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阐明单片薄膜沉积同轴磁控溅射设备的操作特性
DOI:
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发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
古木 辰也
中科院分区:
文献类型:
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作者:
末松 孝太,上坂 裕之;古木 辰也