K.Xu, A.Yoshikawa: "Effect of film polarities of InN grown by molecular beam epitaxy"Applied Physics Letters. Vol.83 No.2. 251-253 (2003)

K.Xu, A.Yoshikawa: "Effect of film polarities of InN grown by molecular beam epitaxy"Applied Physics Letters. Vol.83 No.2. 251-253 (2003)
复制标题

K.Xu、A.Yoshikawa:“分子束外延生长的 InN 薄膜极性的影响”应用物理快报。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献