RFプレーナマグネトロンスパッタ法を用いたエピタキシャルBiFeO3薄膜の作製
RFプレーナマグネトロンスパッタ法を用いたエピタキシャルBiFeO3薄膜の作製
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射频平面磁控溅射法制备外延BiFeO3薄膜
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高田 祐介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
前川亮介;冨田知大;仙波伸也;西村謙佑、浅田裕法，岸本堅剛，小柳剛;高田 祐介
