Growth of ZnO films by the plasma-enhanced metalorganic chemical vapor deposition technique
Growth of ZnO films by the plasma-enhanced metalorganic chemical vapor deposition technique
复制标题
等离子体增强金属有机化学气相沉积技术生长 ZnO 薄膜
DOI：
10.1016/0022-0248(85)90064-8
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发表时间：
1985
影响因子：
1.8
通讯作者：
A. Kawabata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Shimizu;Y. Matsueda;T. Shiosaki;A. Kawabata
