Epitaxial growth of ruthenium dioxide films by chemical vapor deposition and its comparison with similarly grown chromium dioxide films
Epitaxial growth of ruthenium dioxide films by chemical vapor deposition and its comparison with similarly grown chromium dioxide films
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化学气相沉积外延生长二氧化钌薄膜及其与类似生长的二氧化铬薄膜的比较
DOI：
10.1016/j.tsf.2004.10.032
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Anguelouch
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Miao;G. Miao;Arunava Gupta;G. Xiao;A. Anguelouch
