Low Temperature a-Si : H Film Passivation for Crystalline Silicon Substrates
Low Temperature a-Si : H Film Passivation for Crystalline Silicon Substrates
复制标题
低温 a-Si：晶体硅基板的 H 膜钝化
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Kamisako
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Suzuki;N. Arifuku;Y. Yoshii;M. Dhamrin;M. Suda;K. Kamisako
