A.M.Wrobel et al.: "High-quality amorphous hydrogenated silicon carbide coatings by remote plasma chemical vapor deposition from a single source precursor." Journal of Material processing Tech.53. 477-482 (1995)
A.M.Wrobel et al.: "High-quality amorphous hydrogenated silicon carbide coatings by remote plasma chemical vapor deposition from a single source precursor." Journal of Material processing Tech.53. 477-482 (1995)
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A.M.Wrobel 等人：“通过单源前驱体的远程等离子体化学气相沉积获得高质量非晶氢化碳化硅涂层。”
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