Application of Ultrathin Ta2O5 Film to Resistive Switching Memory
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复制标题
超薄Ta2O5薄膜在阻变存储器中的应用
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Ohno and S. Samukawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Ohkoshi;K. Imoto;A. Namai;S. Anan;M. Yoshikiyo;H. Tokoro;Shinsuke Ifuku;T. Ohno and S. Samukawa
