N.Fujimura,S.Tachibana,T.Ito: "Thermal Structural Change ang Oxidation of Nonstoichometric WSi_<2.6>/Si System." Journal of Appl.Phys.
N.Fujimura,S.Tachibana,T.Ito: "Thermal Structural Change ang Oxidation of Nonstoichometric WSi_<2.6>/Si System." Journal of Appl.Phys.
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N.Fujimura、S.Tachibana、T.Ito：“非化学计量 WSi_<2.6>/Si 系统的热结构变化和氧化。”
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