Plasma enhanced chemical vapour deposition of silica onto Ti: Analysis of surface chemistry, morphology and functional hydroxyl groups.
Plasma enhanced chemical vapour deposition of silica onto Ti: Analysis of surface chemistry, morphology and functional hydroxyl groups.
复制标题
钛上二氧化硅的等离子体增强化学气相沉积：表面化学、形态和功能性羟基的分析。
DOI：
10.1016/j.susc.2008.05.027
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
Voelcker,NicolasH
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Szili,EndreJ;Kumar,Sunil;Smart,RogerStC;Lowe,Rachel;Saiz,Eduardo;Voelcker,NicolasH
