The improvement of Al2O3/AlGaN/GaN MISHEMT performance by N-2 plasma pretreatment

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N-2等离子体预处理提高Al2O3/AlGaN/GaN MISHEMT性能

DOI:
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发表时间:
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期刊:
影响因子:
1.7
通讯作者:
Zhang Jin-Cheng
Zhang Jin-Cheng
中科院分区:
物理与天体物理3区
文献类型:
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作者:
Yue Yuan-Zheng;Hao Yue;Bi Zhi-Wei;Tian Yuan;Feng Qian;Ni Jin-Yu;Yang Lin-An;Zhang Jin-Cheng

文献摘要

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