内部アンテナ型ICP-CVDを用いたSiドット及びSiO2膜の低温形成
内部アンテナ型ICP-CVDを用いたSiドット及びSiO2膜の低温形成
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使用内置天线型 ICP-CVD 低温形成 Si 点和 SiO2 膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
東大介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
市川和典;松江将博;西敬生;山本伸一;浦岡行治;東大介
