SiC表面に形成される単一光子源の酸化膜厚依存性

SiC表面に形成される単一光子源の酸化膜厚依存性
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SiC 表面形成的单光子源的氧化物厚度依赖性

DOI:
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发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
常見 大貴,佐藤 真一郎,山﨑 雄一,牧野 高絋,土方 泰斗,大島 武
常見 大貴,佐藤 真一郎,山﨑 雄一,牧野 高絋,土方 泰斗,大島 武
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Masaki Nakano;Yu Chikuba;Dai Shimizu;Akihiro Yamashita;Takeshi Yanai;H. Fukunaga;常見 大貴,佐藤 真一郎,山﨑 雄一,牧野 高絋,土方 泰斗,大島 武

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