コールドウォール反応管を用いる六方晶窒化ホウ素薄膜の減圧CVDにおける原料供給量依存性
コールドウォール反応管を用いる六方晶窒化ホウ素薄膜の減圧CVDにおける原料供給量依存性
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使用冷壁反应管低压CVD六方氮化硼薄膜时原料供给量的依赖性
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
原 和彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
増田 克仁;渡邊 泰良;田中 佑樹;吉岡 陸;大石 泰己;増田 希良里;小南 裕子;原 和彦
