カルバゾール基を導入したトリオキソトリアンギュレン中性ラジカルの合成と物性
カルバゾール基を導入したトリオキソトリアンギュレン中性ラジカルの合成と物性
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引入咔唑基团的三氧三古烯中性自由基的合成及物理性质
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
村田剛志・森田靖
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西村公佑;大原 望;鈴木教之;増山芳郎;橋本久子;村田剛志・森田靖
