Influence of the Angle of Incidence on Sputtering Yields
Influence of the Angle of Incidence on Sputtering Yields
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入射角对溅射产率的影响
DOI：
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发表时间：
1959
期刊：
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通讯作者：
G. Wehner
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Wehner
小金属球被低能量（125 至 800 ev）的均匀 Hg+ 离子束轰击。通过比较溅射前后球体的阴影显微照片，可以确定入射角对溅射产率的影响。 Fe、Ta 和 Mo 在离子更倾斜的入射下表现出产率的显着增加，而 Au、Ag 和 Pt 仅表现出轻微的这种效果。
Small metal spheres are bombarded by uniform Hg+ ion beams of low energy (125 to 800 ev). Comparison of shadow micrographs of the spheres before and after sputtering makes it possible to determine the influence of the angle of incidence on sputtering yields. Fe, Ta, and Mo showed a pronounced increase in yield at more oblique incidence of the ions while Au, Ag, and Pt showed this effect only slightly.