Amorphous Carbon Film Deposition for Hydrogen Barrier in FeRAM Integration by Radio Frequency Plasma Chemical Vapor Deposition Method
Amorphous Carbon Film Deposition for Hydrogen Barrier in FeRAM Integration by Radio Frequency Plasma Chemical Vapor Deposition Method
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射频等离子体化学气相沉积法在 FeRAM 集成中沉积非晶碳膜以形成氢屏障
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N.Fujimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Saito;K.Izumi;Y.Hirota;N.Okamoro;K.Kondo;T.Yoshimura;N.Fujimura
