架橋度の小さいシリコーンゲル中に発生する電気トリーの消失と 絶縁性の回復
架橋度の小さいシリコーンゲル中に発生する電気トリーの消失と 絶縁性の回復
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低交联度硅胶中产生的电树消失并恢复绝缘性能
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川相有佑・全 現九・藤井雅治・○井堀春生
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Tsuji;Y. Fujita;H. Urushibata;A. Kono;M. Koyama and R. Hanaoka;川相有佑・全 現九・藤井雅治・○井堀春生
