Kei Tashiro: "Dynamic Change in Residual Oxygen Pressure during Reactive Sputtering Process of MgO"Proceedings of Plasma Science Symposium 2001/the 18^<th> Symposium on Plasma Processing, January 24-26 2001, Kyoto. 603-604 (2001)
Kei Tashiro: "Dynamic Change in Residual Oxygen Pressure during Reactive Sputtering Process of MgO"Proceedings of Plasma Science Symposium 2001/the 18^<th> Symposium on Plasma Processing, January 24-26 2001, Kyoto. 603-604 (2001)
复制标题
Kei Tashiro：“MgO 反应溅射过程中残余氧压力的动态变化”2001 年等离子体科学研讨会论文集/第 18 次等离子体处理研讨会，2001 年 1 月 24-26 日，京都。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
