Si 構造体への直接めっきによる高アスペクト比金属構造体の作製
Si 構造体への直接めっきによる高アスペクト比金属構造体の作製
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通过在硅结构上直接电镀制造高深宽比金属结构
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
徳岡篤,野田大二,服部正
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tomonori Kato;Genki Higashijima;Takanori Yazawa;Tatsuki Otsubo;Yusuke Nozaki;Katsutoshi Tanaka;徳岡篤,野田大二,服部正
