Diffusion of oxygen atom in the topmost layer of the Si(1 0 0) surface: Structures and oxidation kinetics
Diffusion of oxygen atom in the topmost layer of the Si(1 0 0) surface: Structures and oxidation kinetics
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DOI：
10.1016/j.susc.2007.03.038
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发表时间：
2007-06
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
A. Hémeryck;N. Richard;A. Estève;M. Rouhani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Hémeryck;N. Richard;A. Estève;M. Rouhani
