Atomically Controlled Plasma CVD Processing for Quantum Heterointegration of Group IV Semiconductors
Atomically Controlled Plasma CVD Processing for Quantum Heterointegration of Group IV Semiconductors
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用于 IV 族半导体量子异质集成的原子控制等离子体 CVD 处理
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Sakuraba and J.Murota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akira Emoto *;Naomi Noguchi ;Tomoko Kobayashi ;and Takashi Fukuda;M.Sakuraba and J.Murota
