T.Iizuka, A.Onoda, T.Hoshide: "MD simulation of Hardness Properties of Al Thin Film Sputtered on Si Substrate and Its Related porosity"JSMS International Journal, Series A. 44・3. 346-353 (2001)
T.Iizuka, A.Onoda, T.Hoshide: "MD simulation of Hardness Properties of Al Thin Film Sputtered on Si Substrate and Its Related porosity"JSMS International Journal, Series A. 44・3. 346-353 (2001)
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T.Iizuka、A.Onoda、T.Hoshide：“Si 基板上溅射的 Al 薄膜的硬度特性及其相关孔隙率的 MD 模拟”JSMS 国际期刊，系列 A. 346-353 (2001)。
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