Effects of deposition pressure on Cu2ZnSnS4 films prepared by one-step sputtering with quaternary target

Effects of deposition pressure on Cu2ZnSnS4 films prepared by one-step sputtering with quaternary target
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沉积压力对四元靶一步溅射Cu2ZnSnS4薄膜的影响

DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
Bulgarian Chemical Communications
影响因子：
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通讯作者：
郝瑞亭
郝瑞亭
中科院分区：
化学4区
文献类型：
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作者：
杨海刚;郝瑞亭

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