C.P.Lungu: "Fluorinated carbon films with low dielectric constant made from novel fluorocarbon source materials by RF plasma enhanced chemical vapor deposition"Jpn.J.Appl.Phys.. 38(12B). L1544-L1546 (1999)
C.P.Lungu: "Fluorinated carbon films with low dielectric constant made from novel fluorocarbon source materials by RF plasma enhanced chemical vapor deposition"Jpn.J.Appl.Phys.. 38(12B). L1544-L1546 (1999)
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C.P.Lungu：“通过射频等离子体增强化学气相沉积由新型氟碳源材料制成的低介电常数氟化碳膜”Jpn.J.Appl.Phys.. 38(12B)。
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