Materials processing with low pressure plasma：present issues and possible solutions
Materials processing with low pressure plasma：present issues and possible solutions
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低压等离子体材料加工：当前问题和可能的解决方案
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masaharu Shiratani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sato Yoshiki J.;Honda Fuminori;Shimizu Yusei;Nakamura Ai;Homma Yoshiya;Maurya Arvind;Li Dexin;Koizumi Takatsugu;Aoki Dai;Masaharu Shiratani
