Planarization and Smoothing of CVD Grown Diamond Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Based Process
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采用大气压等离子体工艺对 CVD 生长金刚石晶片进行平坦化和平滑化
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山村和也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
道上久也;田畑雄壮;遠藤勝義;山田 英明;茶谷原 昭義;杢野 由明;山村和也
