Deposition of Highly C-Axis Oriented ScAlN Thin Films by RF Magnetron Sputtering Using a Sc-Al Alloy Target
Deposition of Highly C-Axis Oriented ScAlN Thin Films by RF Magnetron Sputtering Using a Sc-Al Alloy Target
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使用 Sc-Al 合金靶材通过射频磁控溅射沉积高度 C 轴取向的 ScAlN 薄膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Hashimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Fujii;S. Shimizu;M. Sumisaka;Y. Suzuki;S. Otomo;T. Omori;K. Hashimoto
