HfO2/TiO2/SiO2構造の電圧印加によるTiの化学結合状態変化の観測
HfO2/TiO2/SiO2構造の電圧印加によるTiの化学結合状態変化の観測
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HfO2/TiO2/SiO2 结构中施加电压导致 Ti 化学键状态变化的观察
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
野平博司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
桐原芳治;辻口 良太;伊藤俊一;保井晃;宮田典幸;野平博司
