T.Teramoto, N.Watanabe, M.Fujimura, H.Nohira, T.Hattori: "Periodic changes in interface state distribution in accordance with layer-by-layer oxidation on Si (100)"Appl.Surf.Sci. 159-160. 67-71 (2000)
T.Teramoto, N.Watanabe, M.Fujimura, H.Nohira, T.Hattori: "Periodic changes in interface state distribution in accordance with layer-by-layer oxidation on Si (100)"Appl.Surf.Sci. 159-160. 67-71 (2000)
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T.Teramoto、N.Watanabe、M.Fujimura、H.Nohira、T.Hattori：“根据 Si (100) 上的逐层氧化，界面态分布发生周期性变化”Appl.Surf.Sci。
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