Y.Chinzei,et al.: "High aspect ratio SiO_S etching with high resist selectivity improved by Addition of organaosilane to tetrafluoroethyl trifluoromethyl ether"J.Vac.Sci.Technol.. A18(1). 158-165 (2000)
Y.Chinzei,et al.: "High aspect ratio SiO_S etching with high resist selectivity improved by Addition of organaosilane to tetrafluoroethyl trifluoromethyl ether"J.Vac.Sci.Technol.. A18(1). 158-165 (2000)
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Y.Chinzei 等人：“通过将有机硅烷添加到四氟乙基三氟甲基醚中，提高了具有高抗蚀剂选择性的高纵横比 SiO_S 蚀刻”J.Vac.Sci.Technol.. A18(1)。
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