M. Koyama, et al.: "Influence of Near-Surface Defects in Si Induced by Reactive Ion Etching on the Electrical Properties of the Pt/n-Si Interface" Japanese Journal of Applied Physics. 36. 6682-6686 (1997)
M. Koyama, et al.: "Influence of Near-Surface Defects in Si Induced by Reactive Ion Etching on the Electrical Properties of the Pt/n-Si Interface" Japanese Journal of Applied Physics. 36. 6682-6686 (1997)
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M. Koyama 等人：“反应离子蚀刻引起的硅近表面缺陷对 Pt/n-Si 界面电性能的影响”日本应用物理学杂志。
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