WS2 thin films by metal organic chemical vapor deposition
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DOI：
10.1016/s0022-0248(97)00479-x
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发表时间：
1998-03
影响因子：
1.8
通讯作者：
J. Chung;Z. Dai;F. Ohuchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Chung;Z. Dai;F. Ohuchi
