M.Takahashi: "Electron and Helium lon Yield XAFS of Sputter-Deposited lron Silidcide Thin Films." Physica B. (印刷中). (1995)
M.Takahashi: "Electron and Helium lon Yield XAFS of Sputter-Deposited lron Silidcide Thin Films." Physica B. (印刷中). (1995)
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M. Takahashi：“溅射沉积铁硅化物薄膜的电子和氦产率 XAFS”。Physica B.（1995 年出版）。
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