Droplet-free high-density metal ion source for plasma immersion ion implantation
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DOI：
10.1016/j.nimb.2005.08.050
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发表时间：
2006
影响因子：
1.3
通讯作者：
Keiji Nakamura;H. Yoshinaga;K. Yukimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Keiji Nakamura;H. Yoshinaga;K. Yukimura
