Preparation of Iridium Films by Chemical Vapor Deposition on Metal Substrates
Preparation of Iridium Films by Chemical Vapor Deposition on Metal Substrates
复制标题
金属基底上化学气相沉积铱薄膜的制备
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Yoshikawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroki Sato;Takeshi Goto;Yuui Yokota;Takahiko Horiai;Masao Yoshino;Akihiro Yamaji;Rikito Murakami;Takashi Hanada;Satoshi Toyoda;Yuji Ohashi;Shunsuke Kurosawa;Kei Kamada;Atsushi Okuno;Akira Yoshikawa
