M. Nakamura, et al: "Formation mechanism for TiOx thin film obtained by remote plasma enhanced chemical vapor deposition in H2-O2"Thin Solid Films. 401. 138-144 (2001)
M. Nakamura, et al: "Formation mechanism for TiOx thin film obtained by remote plasma enhanced chemical vapor deposition in H2-O2"Thin Solid Films. 401. 138-144 (2001)
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M. Nakamura 等人：“在 H2-O2 中通过远程等离子体增强化学气相沉积获得 TiOx 薄膜的形成机制”固体薄膜。
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