In-depth analysis of chloride treatments for thin-film CdTe solar cells.
In-depth analysis of chloride treatments for thin-film CdTe solar cells.
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对薄膜CDTE太阳能电池的氯化物处理深入分析。
DOI：
10.1038/ncomms13231
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发表时间：
2016-10-24
影响因子：
16.6
通讯作者：
Durose, K.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Major, J. D.;Al Turkestani, M.;Bowen, L.;Brossard, M.;Li, C.;Lagoudakis, P.;Pennycook, S. J.;Phillips, L. J.;Treharne, R. E.;Durose, K.
碲化镉薄膜太阳能电池是目前工业上已建立的硅基光致发光材料的主要替代品。这些电池仍然依赖于所谓的氯化物活化步骤，以实现高转化效率。在这里，通过比较有效和无效的氯化物处理，我们显示的氯化物过程的主要作用是通过氯积累，这导致载流子寿命的增加的晶界的修改。它还表明，虽然填充因子和短路电流的改善可以通过使用无效的氯化物，或甚至简单的空气退火，电压的改善直接链接到氯掺入在晶界。这表明，专注于改进或更受控的晶界处理可以提供实现更高电池电压并因此实现效率的途径。高性能CdTe薄膜太阳能电池通常需要氯化物活化处理。在这里，Major等人表明，最有效的基于氯化物的处理的主要效果是氯化物在晶界处的积累，并且它导致开路电压的改善。
CdTe thin-film solar cells are now the main industrially established alternative to silicon-based photovoltaics. These cells remain reliant on the so-called chloride activation step in order to achieve high conversion efficiencies. Here, by comparison of effective and ineffective chloride treatments, we show the main role of the chloride process to be the modification of grain boundaries through chlorine accumulation, which leads an increase in the carrier lifetime. It is also demonstrated that while improvements in fill factor and short circuit current may be achieved through use of the ineffective chlorides, or indeed simple air annealing, voltage improvement is linked directly to chlorine incorporation at the grain boundaries. This suggests that focus on improved or more controlled grain boundary treatments may provide a route to achieving higher cell voltages and thus efficiencies. High performance CdTe thin film solar cells typically require a chloride activation treatment. Here, Major et al. show that the main effect of the most effective chloride-based treatments is chloride accumulation at grain boundaries and that it results in improved open circuit voltages.
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影响因子：
27.8
作者：
Poplawsky, Jonathan D.;Paudel, Naba R.;Pennycook, Stephen J.
通讯作者：
Pennycook, Stephen J.
影响因子：
64.8
作者：
Major, J. D.;Treharne, R. E.;Durose, K.
通讯作者：
Durose, K.
影响因子：
3
作者：
Abbas, A.;West, G. D.;Barth, K. L.
通讯作者：
Barth, K. L.
DOI：
10.1116/1.582393
发表时间：
2000-07-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
--
作者：
Dhere, RG;Al-Jassim, MM;Kazmerski, LL
通讯作者：
Kazmerski, LL
影响因子：
2.1
作者：
Emziane, M;Durose, K;Halliday, DP
通讯作者：
Halliday, DP