M. Niwano et al.: "Real-Time In-Situ Infrared Study of Etching of Si(100)and(111)Surfaces in Dilute Hydrofluoric Acid Solution" Journal of Applied Physics. (印刷中). (1996)
M. Niwano et al.: "Real-Time In-Situ Infrared Study of Etching of Si(100)and(111)Surfaces in Dilute Hydrofluoric Acid Solution" Journal of Applied Physics. (印刷中). (1996)
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M. Niwano 等人：“稀氢氟酸溶液中 Si(100) 和 (111) 表面蚀刻的实时原位红外研究”应用物理学杂志（1996 年出版）。
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